氮化硅用真空碳管燒結爐 控制加熱系統(tǒng)有可控硅調(diào)壓器+低壓高流大功率變壓器+測溫裝置，組成閉環(huán)控制系統(tǒng)，溫度儀表采用程序儀表帶PID自動調(diào)節(jié)功能，帶自整定自我調(diào)整能力。穩(wěn)定可靠，控制精度高。設備整體配有操作模擬屏，控制系統(tǒng)的操作都集中在上面，直觀明了，操作簡單可靠。控制系統(tǒng)集中安放在爐架的一側箱體內(nèi)，整結大方，維修方便，所有器件均采用施耐德，西門子等，保證使用安全?？刂葡涔裆隙加邪踩N，安裝接線標準化制作。

氮化硅用真空碳管燒結爐 設備用途

本系列真空爐為周期作業(yè)式，采用爐蓋升降、石墨管為發(fā)熱元件，適用于金屬材料，無機非金屬材料，在真空或保護氣氛下進行燒結適用，也可用于光學材料的燒結提純樣品測試分析等適用。

主要技術參數(shù)

3.1 電源：三相 380V 50Hz

3.2 加熱功率：70Kw ±10%（兩相380v）

3.3 設計溫度：1800℃

3.4 額定溫度：0~1750℃

3.4 工作區(qū)尺寸：Φ300*300（D*H，mm）（內(nèi)可放置對應尺寸的坩堝）

3.5 控溫區(qū)數(shù)：一區(qū)

3.6 控溫方式：鎢萊熱偶程序控溫

3.7 控溫精度：±1℃

3.8 冷態(tài)極限真空度：6.7*10-3Pa（空爐、冷態(tài)、烘烤除氣后）

3.9 充氣氣氛：惰性氣體

3.10 充氣壓力：≤0.05MPa

結構及功能說明：

設備采用立式上開蓋結構，設備整體設計操作方便，設備主要有爐蓋、爐體，爐架、真空系統(tǒng)、加熱系統(tǒng)、水冷系統(tǒng)、爐底升降系統(tǒng)，控制系統(tǒng)等組成。

5.1 爐蓋

爐蓋采用雙層不銹鋼（SUS304）水夾層封頭結構，與法蘭組焊成一個整體。其中內(nèi)壁精密拋光，外壁拉絲處理。爐門上設有冷卻水進出口、壓力表，放氣閥等快接接口。

5.2 爐體

爐體采用雙層不銹鋼（SUS304）水夾層架構，與上、下法蘭組焊成筒形結構，上下法蘭平面上開設有燕尾型密封槽，采用O型硅橡膠密封圈密封。爐內(nèi)壁精密拋光，外壁拉絲處理。爐體側面設有冷卻水進出口、真空抽氣口、加熱電極接口，紅外測溫接口等。

5.3 爐底

爐底采用雙層不銹鋼（SUS304）水夾層平板結構，與法蘭組焊成一個整體。其中內(nèi)壁精密拋光，外壁拉絲處理。法蘭平面開設有燕尾型密封槽，采用O型硅橡膠密封圈密封。

5.4 爐架

爐架采用型材焊接作為骨架，并配合數(shù)控鈑金，組合成一個整體，作為整個設備的基礎。同時，一體式設計整齊美觀，操作方便。

5.5 加熱及隔熱系統(tǒng)：

加熱采用高純石墨作發(fā)熱體，純度高，無揮發(fā)，有效保證爐腔內(nèi)的清潔度。隔熱材料采用石墨成型纖維軟氈，保溫效果好，耐沖擊性好。整個隔熱屏采用金屬框架固定，便于安裝與維護。

溫度控制采用高溫熱電偶配合程序儀表閉環(huán)控制，帶多段程序，可以設置升溫、保溫、降溫程序，自動運行。同時，在隔熱屏外設置一支監(jiān)控熱電偶，監(jiān)控隔熱屏外溫度，提高設備的安全使用性能。

5.6真空系統(tǒng)

真空系統(tǒng)采用二級泵配置，由一臺2X-30旋片式機械泵配壓差閥、一臺KT-300擴散泵+真空閥閥、充氣閥、放氣閥、真空壓力表、真空測量規(guī)管等組成，真空管道與泵的聯(lián)接采用金屬波紋管減緩震動，真空度的測量由睿寶數(shù)顯真空計執(zhí)行。

5.7 充放氣系統(tǒng)

本設備配置一路充放氣系統(tǒng)，由流量計、電磁閥、手閥、、接頭等組成，可對爐內(nèi)氣氛壓力進行控制。手閥可以根據(jù)實際情況，適當調(diào)整氣體流量。排出的氣體客戶可結合實際情況進行處理。

5.8 水冷裝置

水冷系統(tǒng)由進出水總管道、閥門及各支路組成。冷卻水由總進水總管進入后，經(jīng)過各支管送到爐門、爐體、爐底、水冷電極、真空泵、冷阱等這些需要冷卻水的地方，然后匯總到出水總管排出?？傔M水管路設有電接點壓力表，具有斷水聲光報警并切斷電源功能。各支路水管采用透明塑膠軟管，通過不銹鋼接頭聯(lián)接進出水總管道及設備各進出水口。每路冷卻水進水管都裝有手動閥門，可手動調(diào)節(jié)水流量大小。